苹果在iPhone上已经使用了长达5年的刘海屏,虽然目前iPhone13系列将刘海面积缩小,但是有效显示面积其实并没有增加太多,遮挡的情况依然严重。
一直以来,外界都希望苹果能早日实现屏下FaceID等技术,将刘海完全隐藏到屏幕下方,实现完全无开孔的效果,再配合上iPhone四边等宽的设计,视觉效果应该会非常出色。
从最新消息来看,这个梦想可能不远了。
据报道,近日美国专利商标局在4月5日已正式授予苹果一项新专利,该专利介绍中显示,其可以将FaceID组件影藏在屏幕下方,屏幕依然可以正常显示,面部识别也能正常工作,两不耽误。
不过需要注意的是,该专利是刚刚获批,这就意味着iPhone14已经完全不可能搭载这项技术。
而按照苹果的超长产品规划时间来看,iPhone15系列的一部分早期工作或许也已经开始,是有一些希望使用该技术的,但是考虑到目前只是专利获批,技术还尚未成型,在iPhone15的开发周期内大概率无法调试完善。
从目前的状况来看,iPhone16系列将会是最大概率会首发该技术的机型,可实现完全无开孔、无刘海,这也与此前分析师罗斯-杨和郭明錤的分析吻合。
至于iPhone14系列,按照目前的多方消息称其已经开始试产,标准版两款机型将继续使用小刘海,Pro版则升级为“感叹号”打孔方案。
这也是5年来苹果首次向苹果动刀子,同样也被认为是苹果将要彻底抛弃刘海的标志。
版权声明:本文内容由互联网用户自发贡献,该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容, 请发送邮件至22018681@qq.com 举报,一经查实,本站将立刻删除。